我国新一代光刻机模型亮相进口博览会，展示技术进步

2026-11-09

在11月5日至10日期间，第九届中国国际进口博览会于上海举行，多项重磅科技成果悉数亮相。上海微电子装备集团（SMEE）展示了自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机模型，包括SSC800和SSB800，标志着国内光刻装备自主化的重要进展。

SMEE在其微信公众号中详细介绍了此次展出的模型，其透明剖视设计让人直观了解光学光路和内部机电系统的布局。这一平台是国产标准化前道光刻装备架构，支持I-line和KrF两种主流技术路线，核心技术包括高精度物镜、照明系统、高速双工件台、掩模台以及一体化自动物料传输系统等，均实现了自主可控，具备良好的工艺适应能力和稳定的生产线运行效果。

据了解，目前国产前道干式光刻机在成像性能方面已达到国际同类产品的领先水平，套刻精度和生产效率逐渐缩小与国际标杆的差距。正在销售的SSC800系列KrF和SSB800系列I-line机型，基于自研的双工件台平台，均配备国产自主研发的大NA物镜，关键曝光成像指标与国际标准一致，SSC800的整体性能位于行业前列。 球友会

依托全新的自主可控技术基础，SMEE的关键零部件国产化率超过90%，实现了定型和规模化生产，填补了国内市场的空白。目前，多台设备已在国内主要逻辑和存储生产线长期稳定运行，累计支持的生产片数已超过千万，设备的有效运行率也超过92%。

SMEE成立于2002年，是国内唯一能够稳定量产交付前道干式光刻机的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给链的核心支持单位，业务涵盖了核心光刻装备的设计、研发、制造、销售及全面技术服务。